新着情報
2012.01.05 トップメッセージを更新いたしました。
2011.11.24 2012年3月期 第2四半期決算説明会資料 [PDF988KB]
2011.11.15 「SEMICON Japan 2011」に出展します。
2011.11.15 「PV Japan 2011」に出展します。
2011.11.14 平成24年3月期 第2四半期決算短信 [PDF276KB]
2011.11.14 業績予想の修正に関するお知らせ [PDF92.0KB]
2011.09.30 シンジケートローンによる長期資金調達に関するお知らせ [PDF105KB]
2011.08.31 「ようこそ! フェローテックへ」を更新いたしました。
2011.08.26 子会社との吸収合併に関するお知らせ [PDF184KB]
2011.08.19 第三者割当増資の結果に関するお知らせ [PDF72.0KB]
2011.08.12 平成24年3月期 第1四半期決算短信[PDF268.0KB]
2011.08.12 業績予想の修正に関するお知らせ[PDF76.0KB]
2011.07.20 発行価格等の決定に関するお知らせ
(金融商品取引法第15条第5項に基づく公表文) [PDF432KB]
2011.07.20 第1回無担保転換社債型新株予約権付社債の転換価額の調整に関するお知らせ[PDF56.0KB]
2011.07.20 発行価格及び売出価格等の決定に関するお知らせ [PDF76.0KB]
2011.07.11 新株式発行及び株式売出しに関するお知らせ [PDF220KB]
2011.07.04 平成23年7月4日提出の大量保有報告書に係る変更報告書に関するお知らせ[PDF68.0KB]
2011.06.30 第31期定時株主総会 議決権行使結果に関するお知らせ [PDF 124KB]
2011.06.27 第31期 決算報告書 [PDF 829KB]
2011.06.14 (訂正・数値データ訂正あり)「平成23年3月期 決算短信[日本基準](連結)」の一部訂正について [PDF 100KB]
2011.06.13 第31期定時株主総会招集ご通知[PDF62.0KB]
磁性流体
磁性流体シール
真空シール
サーモモジュール
石英製品
太陽電池関連
真空蒸着装置

磁性流体

最先端技術の結晶、磁石に反応する液体
磁性流体は、1960年代の初めに「宇宙空間の無重力状態の中で、宇宙船内部の液体燃料を送るにはどうすればよいか」というNASAのスペースプログラムのなかで開発された液体材料です。 ≫

磁性流体シール

故障率低減への解決策としてハードディスクに多数採用されており、歩留まり改善の解決策として各種生産設備にも応用されています。
ウェーハー搬送ロボットなど、クリーンルーム内で使用される設備の駆動部に磁性流体シールを装着することで、塵の発生を防止します。また、導電性磁性流体を使用すれば、静電気によりベアリングの腐蝕対策としても効果を発揮しています ≫

真空シール

回転運動を伝え、気密空間を守る
半導体ウェーハや液晶パネルの製造工程では、超精密な成膜加工を実現するため、密閉された真空空間で加工が行われています。 ≫

サーモモジュール

電流の流れで、冷やす、温めるを使い分ける半導体素子
サーモモジュールとは、対象物を温めたり、冷やしたりする半導体冷熱素子のこと。N型とP型という異なる性質を持った半導体素子に、直流の電気を流すと熱が移動し、一方の面が吸熱(冷却)し、反対の面が放熱(加熱)するというペルチェ効果を応用したものです。電源の極性を逆にすると吸熱と放熱を簡単に切り替えることができます。 ≫

石英製品

純度99.99%のピュアで、熱や化学反応に強いガラス
半導体製造プロセスでは、高熱処理や化学処理が頻繁に行われます。純度99.99%のシリカガラスからなる石英製品は、高温作業に耐え、活性ガスにも化学変化を起こしません。そのため、シリコンウェーハの薄膜生成・搬送・洗浄などの工程でウェーハを固定する部材、あるいは洗浄槽として大量に用いられています。当社では、原材料の調達から製造・加工、販売までを行い、半導体製造工程に必要なあらゆる石英製品をラインアップしています。 ≫

太陽電池関連事業

太陽光発電分野の製品を取り扱っています。
主な製品としては、太陽電池パネルの元となる「シリコン多結晶製造装置」や「シリコン単結晶製造装置」、またその装置内で使用される「石英るつぼ」、太陽電池用の「単結晶シリコンインゴット」などがあります。 ≫

真空蒸着装置

Temescalは、化合物半導体ウェーハへのメタル蒸着のエキスパートとして、最も高性能な生産用装置をご提供します。Temescalの装置は、様々な材料(Ti, Pt, Au, Pd, Ag, Ni, Al, Cr, Cu, Mo, Sn, SiO2 , ITO等)の多層膜蒸着において、高い均一性と繰り返し精度を維持する、制御性能を備えています。 ≫



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